電鍍機(jī)用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面, 靶材的原子被彈出而堆積幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速 靶材周圍的氬氣離子化, 造成靶與氬氣離子間的撞擊機(jī)率增加,提高濺鍍速率。
    一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負(fù)電極表面，這個沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出 而沉積在基板上形成薄膜