商鋪名稱：深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司
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美國(guó)MKS流量計(jì)德國(guó)BUSCH普旭真空泵BA0100螺桿泵
美國(guó)MKS INSTRUMENTS成立于1961年，作為半導(dǎo)體零部件的供應(yīng)商，在氣體、真空儀器及制程控制應(yīng)用等方面有技術(shù)獨(dú)到之處，美國(guó)萬(wàn)機(jī)儀器MKS INSTRUMENTS產(chǎn)品起源于壓力測(cè)量和控制核心技術(shù)，延伸到材料遞送、氣體成分分析、靜電荷控制、工藝控制、信息管理、電源和反應(yīng)氣體發(fā)生器及真空技術(shù)，其產(chǎn)品廣泛地應(yīng)用于各種半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備和制造過(guò)程中。美國(guó)MKS產(chǎn)品包括：美國(guó)MKS流量計(jì)、MKS薄膜真空計(jì)、MKS流量控制閥。
代表型號(hào)：AX7690,AX3060,AX7610,AX2500,AX2600,AX7670,AX7680,AX7685,AX7645,LIQUOZON,NOVA-25,NOVA-50,SPECTRUMB5002, SPECTRUM B11002,ACG-3B,ACG-6B,ACG-10B,GHW-12,GHW-25,GHW-50,SPECTRUM 3013,SUREPOWER QL3513, SUREPOWERQL6513, SUREPOWER QL10513, SUREPOWER QL13013,OPTIMA OPT-50, OPTIMA OPT-100, OPTIMA OPT-200, OPTIMA OPT-400,OPTIMA OPT-600,RPG-50,RPG-100,ENI-RFPC,MWH-5,MW-10D,ENI-2500-13.56,MWH-100,MWH-25,VIPROBE,1249A,148JA11CR1M, 148JA12CR1M, 148JA13CR1M, 148JA14CR1M, 148JA21CR1M, 148JA22CR1M, 148JA23CR1M,
MKS BARATRON 622A01TDE 1 Pa/133.32C70145 Lot 2
MKS Baratron Pressure Switch (41A & 51A)
MKS INSTRUMENTS PORTABLE BARATRON SYSTEM
MKS Instruments Baratron Pressure Transducer 220BHS-2A1
MKS Baratron Type 224/224HA Pressure Switch/Controll?er
MKS Baratron Absolute Pressure Transducer 627B Manual
MKS 621C13TBFHD BARATRON SIGNAL CONDITIONER PRESSURE
MKS PAR-10 BARATRON
MKS BARATRON 627A-13614 .25 Pa/133.32
MKS Baratron Pressure XDCR, 1350-01153, 750B11TCD2GG
MKS BARATRON 223BD-00100AAB PRESSURE TRANSDUCER TYP 223
MKS BARATRON PRESSURE TRANSDUCER 850BRDPCB4GH
MKS Baratron Pressure Transducer 872B12PMD2MT1 100PSIA
MKS BARATRON HEAD UNIT MODEL# 698A12TRA 100 TORR
MKS Model 722A 21TCB3FJ Baratron, 20 TORR Range
MKS Baratron Manometer 100 Torr 622A12TAE new
MKS Baratron Capacitance Manometer 100 Torr 626A12TBETEL UNITY II
MKS BARATRON 627 PRESSURE TRNSDCER 10 TORRTEL UNITY II
MKS BARATRON 627 PRESSURE TRNSDCER 10 TORR
MKS BARATRON PRESSURE SWITCH 51A 450 Torr VCR 1000 -NEW
MKS Baratron Pressure Switch 10 Torr-G 41A-15460 NEW
MKS Baratron Single-end Vacuum Switch, 51A11TGA2BA001
MKS BARATRON PRESSURE TRANSDUCER 722A13TCD2FA
MKS BARATRON PRESSURE GAUGE TRANSDUCER 1000 PSI 840B SS
MKS Baratron Manometer Transducer 1000 Torr 626A13TBE
MKS Baratron Single-end Pressure Switch, 51A13TCA1AA999
CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機(jī)維修、銷售和技術(shù)咨詢8200/9600
CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機(jī)維修、銷售和技術(shù)咨詢。
OB8F:
OEM (CTI) Refurbished CTI Cryogenics Endura 8F Onboard Cryogenic Vacuum Pump.
. Utilized on AMAT Endura HP PVD Systems, OEM Refurbished to Like New Condition.
. Certificate of manufactures conformity attached.
. ConFlat Flange with Copper Gasket. In OEM Box
. CTI Part # 8116143G001 Serial # A06423485 AMAT Part # 0190-13371
8200: 8032559G001
美國(guó)CTI壓縮機(jī)維修9600: 8135900G001
MKS354005-YD-T
INFICON BAG302 B-A 型熱陰極電離真空計(jì)(中高真空計(jì))
INFICON 單臺(tái) Bayard-Alpert 熱離子計(jì) BAG302 的測(cè)量范圍從 1.3 × 10-9 到 6.7×10-2 mbar（1 × 10-9 到 5 × 10-2 Torr）。緊湊型一體化熱離子計(jì)BAG302提供易于更換的雙燈絲傳感器，內(nèi)置OLED顯示屏，設(shè)定點(diǎn)繼電器和對(duì)數(shù)線性模擬輸出以及集成的RS485數(shù)字接口，可提高集成靈活性。這些功能與堅(jiān)固的設(shè)計(jì)相結(jié)合，使BAG302成為一種經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且可重復(fù)的過(guò)程，可作為自己的壓力測(cè)量?jī)x器的基礎(chǔ)，并提供高價(jià)值/低擁有成本的選擇。
INFICON 的 BAG302 熱離子計(jì)是下面列出的 MKS/GP 部件號(hào)的直接直接替代品。 這還包括較舊的傳統(tǒng) MKS 354 微離子®模塊。
| MKS系列 | 部件號(hào) | 顯示 | 單位 | 輸出 | 法蘭型 | 燈絲 | INFICON部件號(hào) |
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355 微離子®
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355400-0-碼 | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
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355400-0-葉-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 355 微離子® | 355400-0-YK-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355400-0-YF-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 355 微離子® | 355400-0-YG-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
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355400-0-碼 | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
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355400-0-葉-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
| 355 微離子® | 355400-0-YK-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355400-0-YF-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355400-0-YG-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
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355400-0-碼 | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
|
355400-0-葉-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 355 微離子® | 355400-0-YK-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355400-0-YF-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 355 微離子® | 355400-0-YG-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
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355600-0-碼 | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
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355600-0-葉-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
| 355 微離子® | 355600-0-YK-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355600-0-YF-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355600-0-YG-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
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355600-0-碼 | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
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355600-0-葉-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 355 微離子® | 355600-0-YK-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355600-0-YF-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 355 微離子® | 355600-0-YG-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
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355600-0-碼 | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
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355600-0-葉-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 355 微離子® | 355600-0-YK-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355600-0-YF-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 355 微離子® | 355600-0-YG-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
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355410-0-碼 | 不 | 托 | RS485 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
|
355410-0-葉-T | 不 | 托 | RS485 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 355 微離子® | 355410-0-YK-T | 不 | 托 | RS485 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355410-0-YF-T | 不 | 托 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 355 微離子® | 355410-0-YG-T | 不 | 托 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354001-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354001-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354001-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354001-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354001-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354001-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354001-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354001-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354001-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354001-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354001-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354001-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354001-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354001-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354001-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354002-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354002-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354002-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354002-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354002-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354002-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354002-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354002-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354002-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354002-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354002-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354002-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354002-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354002-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354002-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354005-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | RS485 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354005-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | RS485 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354005-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | RS485 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354005-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354005-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354005-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354005-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354005-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354005-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354005-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354005-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354005-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354005-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354005-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354005-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
ASML是 Advanced Semiconductor Material Lithography的簡(jiǎn)稱，中文名稱為阿斯麥（中國(guó)大陸）、艾司摩爾（中國(guó)臺(tái)灣）。艾司摩爾（ASML）為半導(dǎo)體設(shè)備供貨商，成立于1984年，是從荷商飛利浦分割出來(lái)獨(dú)立的半導(dǎo)體設(shè)備公司，總部設(shè)立于荷蘭的Veldhoven。
ASML為半導(dǎo)體生產(chǎn)商提供光刻機(jī)及相關(guān)服務(wù)，TWINSCAN系列，應(yīng)用最為廣泛的高端光刻機(jī)型。目前全球絕大多數(shù)半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商，都向ASML采購(gòu)TWINSCAN機(jī)型，例如英特爾（Intel），三星（Samsung），海力士（Hynix），臺(tái)積電（TSMC），中芯國(guó)際（SMIC）等。
ASML的產(chǎn)品線分為PAS系列，AT系列，XT系列和NXT系列，其中PAS系列光源為高壓汞燈光源，現(xiàn)已停產(chǎn)，AT系列屬于老型號(hào)，多數(shù)已經(jīng)停產(chǎn)。市場(chǎng)上主力機(jī)種是XT系列以及NXT系列，為ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的機(jī)型，分為干式和沉浸式兩種，而NXT系列則是現(xiàn)在主推的高端機(jī)型，全部為沉浸式。
