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一、真空管式爐用途
真空管式爐主要應用于高等院校、科研院所、工礦企業等實驗和小批量生產之用。主要用于粉體、電子、陶瓷等其它產品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（CVD）工藝等
二、真空管式爐結構
1.爐體采用雙層爐殼結構，雙層爐殼之間裝有風機，可以快速升降溫，爐殼表面溫度低。
2.爐管采用99高純剛玉管、兩端采用SUS304高真空法蘭密封。
3.爐膛材料采用優質的進口氧化鋁多晶纖維真空吸附制成，節能50%，加熱爐膛為一體化，方便取放實驗物料、更換爐管。加熱元件采用硅碳棒。
4.電爐溫度控制系統采用人工智能調節技術，具有PID調節、模糊控制、自整定能力并可編制各種升溫程序等功能，該控制系統溫度顯示精度為±1℃，溫場穩定度±5℃，升溫速率1~20℃可任意設置。
5.真空度可以達到10Pa
三、真空管式爐參數
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型號 |
爐膛尺寸(mm) (DxWxH) |
功率 (KW) |
最高溫度 (℃) |
額度溫度 （℃） |
加熱元件 |
電壓 （V） |
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JW60/16 |
Φ60×1000 |
7 |
1600 |
1500 |
硅鉬棒 |
380 |
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JW80/16 |
Φ80×1000 |
9 |
1600 |
1500 |
硅鉬棒 |
380 |
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JWF100/16 |
Φ100×1000 |
9 |
1600 |
1500 |
硅鉬棒 |
380 |
注：可根據用戶要求另行設計制造，更多規格及參數和詳細技術方案請來電咨詢！
