1. 太陽(yáng)能晶體硅電池

了解一下太陽(yáng)能系統(tǒng)的主要制造工藝, 硅-硅錠-硅片-電池-太陽(yáng)能組件-太陽(yáng)能系統(tǒng)，其中硅錠和硅片這兩道工序是兩個(gè)會(huì)產(chǎn)生硅廢料的環(huán)節(jié)，由于純硅材料非常昂貴，所以如果能將這些原本要丟棄的廢料清理干凈，實(shí)現(xiàn)可回收，提高硅原料的利用率，大大節(jié)省材料成本。創(chuàng)捷國(guó)際的壓力式噴砂系統(tǒng)是這種可回收硅原料清理的理想方案。

2. 太陽(yáng)能薄膜電池

壓力式噴砂系統(tǒng)同樣可應(yīng)用于薄膜太陽(yáng)能電池組件的制造。

創(chuàng)捷國(guó)際機(jī)械噴砂機(jī)、噴砂房、噴丸機(jī)系列為太陽(yáng)能制造領(lǐng)域提供的表面清理解決方案。

在硅錠制成過(guò)程中產(chǎn)生硅廢料的清潔處理。硅片是構(gòu)成太陽(yáng)能組件的基礎(chǔ)，它是由硅錠進(jìn)行切割和成形處理后，通過(guò)高精度切片技術(shù)制成的，過(guò)程中產(chǎn)生的破損硅片也要進(jìn)行回收處理。對(duì)于硅廢料的回收清理，主要是清潔表面的污物、雜質(zhì)、碎屑。創(chuàng)捷國(guó)際的壓力式噴砂系統(tǒng)是該種清理應(yīng)用的最佳方案。由于噴砂過(guò)程時(shí)，最大的材料磨損會(huì)達(dá)1mm,所以會(huì)產(chǎn)生大量的粉塵，這對(duì)噴砂設(shè)備的高耐磨性提出了特殊要求。更甚的是，創(chuàng)捷國(guó)際的壓力式噴砂清理利用攝影追蹤技術(shù)，搜尋對(duì)準(zhǔn)夾雜物，進(jìn)行有的放矢的噴砂。

全自動(dòng)的清理室由2個(gè)噴砂系統(tǒng)、攝像系統(tǒng)、零件上/下料系統(tǒng)、轉(zhuǎn)臺(tái)系統(tǒng)和廢料輸送帶組成

對(duì)將硅錠切割成硅片的鋼絲鋸等工具上殘留物進(jìn)行清理。殘留層厚度很薄，但面積卻很大。所以噴砂設(shè)備也需要有特殊的高耐磨性。創(chuàng)捷國(guó)際的通過(guò)式壓力噴砂系統(tǒng)是清理鋸切工具表面殘留物的最佳選擇。

噴砂清理太陽(yáng)能薄膜制造過(guò)程中使用的涂敷工具和支架，這些工具和支架是用于對(duì)導(dǎo)電玻璃基底進(jìn)行光伏涂層的涂覆。

創(chuàng)捷國(guó)際提供專門用于清潔上述涂敷工具和支架的噴砂系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括噴嘴機(jī)械手的大型噴砂房，其丸料回收系統(tǒng)配有高效的磁選分離單元和丸料篩分器。

光伏產(chǎn)業(yè)中，對(duì)原材料硅錠的加工處理工藝是很復(fù)雜的，兼顧硅的高純度和利用率是關(guān)鍵。為了對(duì)制造中產(chǎn)生的可回收硅材料進(jìn)行清潔后，循環(huán)利用，創(chuàng)捷國(guó)際提供了一套特殊的清理系統(tǒng)，用于對(duì)雜質(zhì)進(jìn)行搜尋、和有的放矢的噴砂處理。之后，被清理過(guò)的硅材料可重新熔化，成為開(kāi)重復(fù)是使用的高純度硅。人工清理方法繁瑣、污染大且成本高。創(chuàng)捷的壓力式噴砂系統(tǒng)具有自動(dòng)化和高耐磨特性。由于直接噴打硅材料，所以對(duì)噴砂設(shè)備的磨損破壞力相當(dāng)驚人，因?yàn)閷?duì)設(shè)備耐磨性的要求極高。太陽(yáng)能電池產(chǎn)業(yè)要求非常高純度的硅，除了創(chuàng)捷國(guó)際掌握了能確保可回收硅料高純度清理要求的獨(dú)家技術(shù)，目前尚未有其他廠家能達(dá)到該純度標(biāo)準(zhǔn)。利用創(chuàng)捷國(guó)際高自動(dòng)化的壓縮空氣式噴砂系統(tǒng)，讓全球的太陽(yáng)能電池制造商們能最大程度利用昂貴的硅原料，保證可回收材料的高純度，從而大大節(jié)省生產(chǎn)和原料成本。

在制造加工前，所有的原材料表面必須先進(jìn)行徹底且正確地清潔處理，然后放入高溫熔爐中熔化，通過(guò)晶化工藝形成硅錠，再對(duì)硅錠進(jìn)行切割和成形處理，制成硅片。

清潔方法有機(jī)械噴砂和化學(xué)酸洗。但化學(xué)方式，清潔劑的成本高，更重要的是處理后的廢水含有大量有害物質(zhì)，危害環(huán)境和健康，很多廠商無(wú)法解決化學(xué)清理帶來(lái)的排放問(wèn)題。

噴砂方法，即使具備高性能除塵單元，避免硅灰塵污染工作環(huán)境，硅的表面粉塵殘留少，不會(huì)降低硅純度。。該系統(tǒng)由一個(gè)深1200mm x 寬1320mm x 高76mm的噴砂柜組成，內(nèi)置一個(gè)直徑為1067mm的重型轉(zhuǎn)臺(tái)，可實(shí)現(xiàn)連續(xù)清理工作。具有高效的清潔能力，更干凈的表面，不產(chǎn)生粉塵，丸料耗用低，對(duì)設(shè)備磨損小。