韓一1600MM磁控濺射鍍膜機 蒸發鍍膜 雙空真室電源靶材設備鍍膜 ?雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜機（181-030-45976）
用途：
適用于精密光學元件，高精密光通訊產品鍍制光學膜:電學膜、金屬膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜、各種濾光片、玻璃片及塑膠(樹脂)件上鍍制增透膜、帶通膜和截止膜等各種膜系的鍍膜。高精度的膜厚控制系統、性能優良的電子槍、自動化程度極高的鍍膜控制系統等，是高精度光學薄膜的理想鍍制設備。
腔體結構： 采用立式雙開門，后置真空獲得系統
電源類型： 配置電阻蒸發電源、離子轟擊電源、可控硅電源
材質用料： 嚴選采用優質碳鋼或不銹鋼材質
泵抽系統： 裝備擴散泵或分子泵 羅茨泵 機械泵 維持泵（配置可選深冷泵）
冷卻系統： 水循環冷卻方式，另需配冷卻水塔或工業冷水機。
轉動系統： 公自轉結合，變頻調節
智能控制： PLC智能控制 HMI全彩人機觸控界面，實現全自動控制
報警及保護：異常情況進行報警，并執行相應保護措施。
其他技術參數：
極限真空： 5.0×10-4Pa
抽氣速率： 5.0*10-2≤5min
水壓流速≥0.2Mpa 3m3/h；水溫≤25℃；氣壓：0.4-0.8Mpa

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品牌 ? ?型號 ? ?數量
光弛 ? ?1550 ? ?2臺
? ? 1300 ? ?2臺
韓國韓一 ? ?2050 ? ?3臺
? ? 1600 ? ?2臺
? ? 1200 ? ?1臺
? ? 2700 ? ?1臺
韓國聯合 ? ?2050/1300 ? ?2臺
韓一磁控濺射 ? ?1600 ? ?1臺
臺灣龍翩 ? ?1800 ? ?2臺
臺灣PEVA ? ?900 ? ?2臺
德國萊寶 ? ?1100/1510 ? ?2臺
日本多弧鍍膜機 ? ?1300 ? ?1臺
南光 ? ?1100/1300 ? ?4臺?