商鋪名稱：深圳市方達研磨技術(shù)有限公司
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該硅片拋光機是高科技產(chǎn)品，能對超薄超大尺寸的硅片進行研磨拋光加工。平面度最高可達0.2u，光潔度最高可達0.2。高質(zhì)量高效率一直是此款機器的最大賣點。售后服務完善，有專業(yè)的技術(shù)指導。試樣請咨詢：www.szfangda.cn
工作原理：
本系列硅片拋光機由四個吸附盤吸附硅片與拋光盤做逆時針旋轉(zhuǎn)來達到拋光的目的。
特點：
1.本系列拋光機的吸附盤由四臺單獨的電機驅(qū)動、速度與壓力可調(diào)。
2.控制系統(tǒng)中采用PLC彩色終端等先進技術(shù)，系統(tǒng)的響應速度更快、更精確，并具有遠程監(jiān)控，遠程維護的功能；
3.本系列拋光機運行平穩(wěn)，拋光后的產(chǎn)品厚度公差可控制在正負0.002mm范圍內(nèi)，粗糙度可達到0.0005mm。
設備規(guī)格：
型號 |
YM-18A |
YM-24A |
YM-36A |
YM-48A |
拋光盤規(guī)格 |
φ460*φ140 |
φ610*φ200 |
φ910*φ300 |
φ1220*φ400 |
最大拋光尺寸 |
φ150mm |
φ200mm |
φ300mm |
φ450mm |
拋光后平面度 |
±0.5u以內(nèi) |
±0.7u以內(nèi) |
±1u以內(nèi) |
±1u以內(nèi) |
工件平行度（25mm） |
±1u以內(nèi) |
±1.5u以內(nèi) |
±2u以內(nèi) |
±2u以內(nèi) |
工件粗糙度 |
0.4nm以內(nèi) |
0.4nm以內(nèi) |
0.4nm以內(nèi) |
0.4nm以內(nèi) |
拋光盤電機功率 |
2.2kw 3相380V |
3.7kw 3相380V |
7.7kw 3相380V |
11kw 3相380V |
拋光盤轉(zhuǎn)速 |
0~120rpm |
0~100rpm |
0~80rpm |
0~60rpm |
外形尺寸 |
700*1100*1100mm |
950*1200*2200mm |
1200*1400*2300mm |
1500*1700*2400mm |
重量 |
960kg |
1800kg |
2600kg |
4500kg |
