西門子6ES7515-2RM00-0AB0

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干擾變量由具有積分作用的控制器進行校正。持久不變的干擾變量不會降低控制質量，因
為控制偏差相對較穩定。由于控制偏差波動，動態干擾變量會對控制質量產生較顯著的影
響。只能通過緩動的積分作用來再次消除控制偏差。
可將可測量的干擾變量包含在受控系統中。這樣會顯著提高控制器的響應速度。

下表概述了控制器結構與物理量的各種組合的適宜性。
物理量 控制器結構
P P PD PI PID
持續控制偏差 無持續控制偏差
溫度  適用于對性能要
求較低的系統以
及 T u /Tg < 0,1
的比例作用受控
系統
軟件控制器概述
要組態軟件控制器，需要使用包含控制算法的指令和工藝對象。軟件控制器的工藝對象相
當于指令的背景 DB。控制器的組態數據保存在工藝對象中。與其它指令的背景數據塊不
同，工藝對象并非存儲在程序資源中，而是存儲在 CPU > 工藝對象下。
工藝對象和指令
CPU 庫 庫 指令 工藝對象 說明
S7-1200  Compact PID PID_Compact
V1.x
PID_Compact
V1.x
具有集成調節功能的通用 PID 控制

添加工藝對象
在項目瀏覽器中添加工藝對象
添加工藝對象時，會為該工藝對象的指令創建一個背景 DB。 工藝對象的組態存儲在該背
景數據塊中。
要求
已創建具有 CPU 的項目。
步驟
要添加工藝對象，請按以下步驟操作：
1. 在項目樹中打開 CPU 文件夾。
2. 打開“工藝對象”(Technology objects) 文件夾。
3. 雙擊“添加新對象”(Add new object)。
將打開“添加新對象”(Add new object) 對話框。
4. 單擊“PID”按鈕。
將顯示所有可用于該 CPU 的 PID 控制器。
5. 選擇該工藝對象的指令，例如，PID_Compact。