日本savina無(wú)塵布高科技領(lǐng)域正日益精密和復(fù)雜。對(duì)于LSI和LCD等產(chǎn)品生產(chǎn)過(guò)程中所需的嚴(yán)格無(wú)塵環(huán)境而言，高效擦拭布是必備要素。Savina MINIMAX能夠輕松滿(mǎn)足時(shí)代需求，具有出色的功能，足以應(yīng)對(duì)超級(jí)無(wú)塵室中的極端無(wú)塵條件。

 　　無(wú)塵室中所使用的擦拭布應(yīng)當(dāng)能夠清潔所有儀器、器械和外圍設(shè)備，同時(shí)不會(huì)造成污染。擦拭布還要能夠吸收并清除多余的水分。Savina MINIMAX具備此類(lèi)擦拭布所需的所有屬性，是性能最好的擦拭布之一，專(zhuān)為高科技時(shí)代而設(shè)計(jì)。　超級(jí)高收縮、高密度整理產(chǎn)品 。  

Savina MINIMAX在專(zhuān)門(mén)的細(xì)針距針織機(jī)上編制而成，其坯布橫向和縱向的收縮率均達(dá)到其原始尺寸的40%。它未經(jīng)任何粘合劑處理，就達(dá)到了這樣的致密結(jié)構(gòu)。所得擦拭布表面積高達(dá)25,700 c㎡/g，從而確保了在不掉毛的情況下清除灰塵。而傳統(tǒng)擦拭布的表面積僅為2,420 c㎡/ 
特點(diǎn)： 掉毛量極少。 

　　■ 迅速而積極地吸收并留住水分。 

　　■ 殘留離子和其他物質(zhì)的溶解率較低。 

　　■ 具備高端的擦拭布性能（灰塵清除量最大，同時(shí)不會(huì)污染無(wú)塵室設(shè)備）。
用途■ 光磁盤(pán)、硬盤(pán)和軟盤(pán)的生產(chǎn)過(guò)程 

　　■ 液晶偏轉(zhuǎn)板以及其他物品的生產(chǎn)過(guò)程 

　　■ 光盤(pán)和磁盤(pán)的生產(chǎn)過(guò)程 

　　■ 錄像機(jī)的生產(chǎn)過(guò)程 

　　■ 隱形眼鏡的生產(chǎn)過(guò)程 ■ 相機(jī)裝配線 

　　■ 印刷電路板的清潔工藝 

　　■ 相機(jī)鏡頭鍍膜前的清潔工藝 

　　■ 藥品生產(chǎn)線清潔工藝 

　　■ 電影膠片清潔工藝 

■ 半導(dǎo)體和基礎(chǔ)電路的生產(chǎn)過(guò)程

　　■ 精密涂層之前工件的清潔過(guò)程
        液晶顯示器制造過(guò)程，LCD,LCM,TFT,TN,STN
        3D產(chǎn)品，玻璃，鏡片，鏡頭，高科技產(chǎn)品
        醫(yī)療器件清潔，無(wú)菌室清潔保養(yǎng)，醫(yī)療器材保養(yǎng)
        手機(jī)電腦生產(chǎn)過(guò)程清潔保養(yǎng)，攝像頭，攝像機(jī)數(shù)碼相機(jī)清潔過(guò)程
產(chǎn)地：日本原裝 JAPAN

常用規(guī)格：24CM*24CM    10片/包   10包/盒