KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 用于鋁表面濺射沉積 ZrN 薄膜
    發布者:bdqysh  發布時間:2021-01-12 15:40:52  訪問次數:118

    河北某大學研究室為了研究磁控濺射時間和氮氣流量對 ZrN 薄膜色度的影響采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助在鋁表面濺射沉積ZrN 薄膜

     

    KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數:

    射頻離子源型號

    RFICP380

    Discharge 陽極

    射頻 RFICP

    離子束流

    >1500 mA

    離子動能

    100-1200 V

    柵極直徑

    30 cm Φ

    離子束

    聚焦平行散射

    流量

    15-50 sccm

    通氣

    Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

    典型壓力

    < 0.5m Torr

    長度

    39 cm

    直徑

    59 cm

    中和器

    LFN 2000

     

    KRI 離子源的獨特功能實現了更好的性能增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的.

     

    試驗結論:

    隨著磁控濺射時間的增長薄膜的亮度在減少黃藍值在 3 min時出現最大值說明鍍膜時間在 3 min 時最接近黃色紅綠值波動比較大而氮氣流量在 13~18 sccm 薄膜顏色呈金黃色.

     

    伯東是德國 Pfeiffer 真空泵檢漏儀質譜儀真空計美國 KRI 考夫曼離子源美國HVA 真空閥門美國 inTEST 高低溫沖擊測試機美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

     

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