用途
· 金屬(鋁)、鎢和電介質(zhì)(氧化物)以及多晶硅等離子刻蝕(氯化物、氟化物和溴化物)
· 電子回旋共振(ECR)刻蝕
· 薄膜沉積CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
· 濺射
· 離子注入源,射束線泵送和站
功能與優(yōu)勢
· 緊湊型設計,包括完全集成的控制器
· 創(chuàng)新性自傳感軸承系統(tǒng)
· 數(shù)字化5軸控制
· 與現(xiàn)有渦輪泵相比振動級別降低了50%
· 可以配置為運行腐蝕性制程
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