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20年代初，威廉（Williams）對(duì)硅鐵中單晶進(jìn)行了研究，得到了在易磁化軸軸向也應(yīng)有極好的性能 。1926年，日本人本多· 茅發(fā)現(xiàn)，鐵的結(jié)晶方向最容易磁化，或者說晶粒立方體棱邊方向是最易磁化的方向。1934年，美國(guó)人戈斯（N.P.Goss）在試驗(yàn)室里研制成功取向硅鋼片，他采用冷軋與高溫?zé)崽幚硐嘟Y(jié)合的方法，使硅鋼片中晶粒沿軋制方向有序排列，具有優(yōu)良的磁性。1935年，戈斯在《Trans Amer. Soc. Metals》上發(fā)表文章，介紹研究成果，并申請(qǐng)獲得了英國(guó)專利（No.442211）。同年，美國(guó)Armco公司開始工業(yè)化生產(chǎn)冷軋取向硅鋼片。40年代，美國(guó)Armco公司和Allegheny公司都生產(chǎn)出了高質(zhì)量的變壓器用取向硅鋼片。Armco公司的牌號(hào)為Tran-cor（西屋公司稱為Hipersil）；Allegeny公司的牌號(hào)為Silectron（GE公司稱為Corosil）。1953年，日本試制成冷軋取向硅鋼片。1958年，日本引進(jìn)Armco公司的專利技術(shù)，開始冷軋取向硅鋼片的工業(yè)化生產(chǎn)，并在此基礎(chǔ)上不斷改進(jìn)，使日本冷軋硅鋼片的性能達(dá)到世界最高水平。
1968年，日本新日鐵工廠開始工業(yè)化生產(chǎn)高導(dǎo)磁密度取向硅鋼片，它的商用名是“Orientcore Hi-B”，簡(jiǎn)稱“Hi-B”；1972年，開發(fā)出大晶格高導(dǎo)磁取向硅鋼片；1981年又進(jìn)而開發(fā)出小晶格高導(dǎo)磁取向硅鋼片；1982年，日本開始生產(chǎn)表面激光照射處理（ZDKH）的高導(dǎo)磁取向硅鋼片，進(jìn)一步降低了鐵損。1988年，日本又開發(fā)出采用機(jī)械方法形成微小應(yīng)力法（ADMH）的高導(dǎo)磁取向硅鋼片。日本新日鐵公司取向硅鋼片的發(fā)展見圖4。50年代，幾個(gè)國(guó)家單取向硅鋼片的性能見表5。1955～1975年間，日本取向硅鋼片及無取向硅鋼片的質(zhì)量變遷見圖5。

高磁感冷軋取向硅鋼片： 高磁感冷軋硅鋼帶皆為單取向鋼帶，主要用于電信與儀表工業(yè)中的各種變壓器、扼流圈等電磁元件的制造。其應(yīng)用場(chǎng)合有兩個(gè)主要特點(diǎn)，一是小電流即弱磁場(chǎng)條件下，要求材料在弱磁場(chǎng)范圍內(nèi)具有高的磁性能，即高的μ0 值和高的B值；第二個(gè)特點(diǎn)是使用頻率高，通常都在400Hz以上，甚至高達(dá)2MHz。為減小渦流損耗和交變磁場(chǎng)下的有效磁導(dǎo)率，一般使用0.05-0.20mm的薄帶。 電機(jī)工業(yè)大量使用厚度為0.35～0.50mm的硅鋼片；在電信高頻技術(shù)中常用0.05~0.20mm的薄帶鋼片,以便更有效地降低渦流損耗。熱軋硅鋼片厚度為0.35～0.50mm，密度為7.55～7.70g/cm3,多用于大、中、小型交、直流電動(dòng)機(jī)；冷軋無取向硅鋼片厚度為0.35～0.50mm，密度為7.65～7.75g/cm3，多用于大型交流發(fā)電機(jī)、電動(dòng)機(jī)，大、中、小型交、直流電動(dòng)機(jī)；冷軋單取向硅鋼片厚度為0.35mm，密度為7.65g/cm3,多用于電力變壓器、電抗器、磁放大器等；冷軋單取向薄帶厚度為0.05～0.20mm，多用于無線電高頻變壓器。