方法
商品名稱或代號
滲劑成分或配方
工藝參數
生產周期
(h)備注
溫度(℃)
時間(h)
熔鹽法
Sursulf
工作鹽浴(基鹽)CR4由鉀,鈉,鋰的氰酸鹽與碳酸鹽和少量硫化鉀組成:再生鹽CR2用于調整成分
500～590(常用560～580)
0.2～3
0.3～3.5
法國于1975年開;無污染,應用面廣,處理時間通常為1~2h.本工藝已取代高氰熔鹽法
熔鹽法
LT工藝
工作鹽浴為基鹽J-1,成分與法國CR4相同.加以調整的J-2基鹽(無硫)則用于氮碳共滲或QPQ處理.再生鹽Z-1與CR2相同可用于調整硫氮碳共滲或氮碳共滲熔鹽的成分
500～590(常用550～580)
0.2～3
0.3～3.5
國家"六五"重點科技攻關成果,兼具Sursulf及西德的Melonite,QPQ工藝的功能，SNC共滲后的工件直接轉入Y-1氧化浴（性以下AB1浴相同）的LTC-1處理與法國oxynit無異
熔鹽法
JIHBT-6a
57%(NH2)2CO
500～590
0.5～3
0.7～3.5
原料無毒，工作狀態下不斷形成KCN，NaCN，有較大的毒性
熔鹽法
JIHBT-6a
38%K2CO3
500～590
0.5～3
0.7～3.5
原料無毒，工作狀態下不斷形成KCN，NaCN，有較大的毒性
熔鹽法
JIHBT-6a
5%Na2S2O3
500～590
0.5～3
0.7～3.5
原料無毒，工作狀態下不斷形成KCN，NaCN，有較大的毒性
氣體法
-
5%NH30.02～2%H2S,丙烷與空氣制得的載氣(余量)
500～650
1～4
2～5
必要時加滴碳當量小的煤油或苯，以提高碳勢
氣體法
-
每1LC6H6中溶入25g(C6H4)2NHS及9gS:NH3適量
500～650
1～4
2～5
在通氨的同時,滴入CS2或其它含硫的有機液體供硫劑(例如將NH4CNS溶入C2H5OH中)均可
氣體法
KYGS塊
每1L含C,N的有機物液體(例如CH3OH與HCONH2各半中加入(NH2)2及H3-BO3各8g
540～570
1～2
2～3
膏劑法
-
37%ZnSO4
550～570
2～4
3～5
適用于單件或小批生產的大工件的局部表面強化
膏劑法
-
18.5%K2SO4(或18.5%Na2SO4)
550～570
2～4
3～5
適用于單件或小批生產的大工件的局部表面強化
膏劑法
-
37.5%Na2S2O3
550～570
2～4
3～5
適用于單件或小批生產的大工件的局部表面強化
膏劑法
-
7%KCNS
550～570
2～4
3～5
適用于單件或小批生產的大工件的局部表面強化
膏劑法
-
14%H2O(另加)
550～570
2～4
3～5
適用于單件或小批生產的大工件的局部表面強化
粉末包裝(固體)法
-
35～60FeS
550～650
4～8
5～9
效率低,有粉塵污染
粉末包裝(固體)法
-
10～20K4Fe(CN)6
550～650
4～8
5～9
效率低,有粉塵污染
粉末包裝(固體)法
-
石墨粉(余量)
550～650
4～8
5～9
效率低,有粉塵污染
離子法
-
CS2
550～650
1～4
2～5
可用含S的有機溶液代CS2
離子法
-
NH3
550～650
1～4
2～5
可用含S的有機溶液代CS2